Bij de productie van fotovoltaïsche cellen heeft het reinigen van wafers een directe impact op de daaropvolgende coating en elektrische prestaties. Traditionele architecturen die voornamelijk gebaseerd zijn op lokale I/O, worstelen vaak wanneer meer bewakingspunten, diagnose op afstand of procesoptimalisatie nodig zijn.

In een project heeft een waferreinigingssysteem een Omron PLC plus RB remote I/O-oplossing gebruikt. De configuratie van 3×RB-1110, 3×16DI, 3×16DO, 1×AI en 1×AO maakt gecentraliseerde bewaking en controle van de machinestatus, waterdruk en chemische concentratie mogelijk.

Digitale ingangen en uitgangen volgen aandrijvingen, veiligheidsdeuren, niveaus en alarmen. Analoge kanalen lezen druk-, flow- of concentratiesignalen, terwijl analoge uitgangen kleppen en pompen aansturen om het reinigingsproces binnen een gedefinieerd werkvenster te houden.

Met de RB remote I/O kan de fabrikant van de apparatuur:

• Sensoren en actuatoren die over de machine verspreid zijn, consolideren in uniforme remote stations;

• I/O-capaciteit reserveren voor toekomstige bewakingspunten of receptoptimalisatie zonder grote herbedrading;

• Gegevens voeden naar systemen op een hoger niveau voor trendanalyse en oorzaakonderzoek, waardoor de reinigingsconsistentie wordt verbeterd.

Dit stelt PV-fabrikanten in staat om hun waferreinigingssecties te upgraden naar een meer datagestuurde modus zonder hun belangrijkste PLC-platform te veranderen.